10月14日，正在国家会展中心（上海）举行的第二十六届中国国际工业博览会上，上海企业朗道燧岩首次公开展出一台极紫外（EUV）光源系统样机，现场工作人员介绍其国产化率达90%，绝大多数核心零部件为自主研发，可用于芯片曝光测试。
据解放日报报道，这台样机是目前公开展示中进度最靠前的国产EUV光源样机，被称作高端光刻机的“心脏”。极紫外光源是7纳米及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断与禁运限制。
样机参数与国产化程度
据现场工作人员介绍，本次展出的光源系统国产化率达90%，技术路线与国际领先厂商一致。
朗道燧岩官网列出多款EUV产品，包括高功率极紫外光源腔体FlintMicro-LPP Alpha01、激光诱导等离子体极紫外光源，以及低功率EUV光源系统FlintNano LPP-OXXO。其中高功率系列已完成原理论证，低功率系列处于产品化阶段。
按官网参数，FlintNano LPP-OXXO的驱动激光功率为1000W，激光频率1至20kHz，转换效率大于2%，EUV能量大于15W，持续工作时间超过100小时，等离子体尺寸60μm，能量稳定性为5%。
团队与融资来自张江
据上海市浦东新区政府官网和集微网报道，朗道燧岩成立于2024年，创始人王豪博士团队以清华大学气体放电等离子体实验室的研发成果为基础，聚焦LPP-EUV光刻光源技术。
2025年10月，该公司获得张江高科旗下燧玥创投的天使轮战略融资，累计融资额超千万元，并在张江高科·矽岸国际建立超过一千平方米的研发实验室，入驻上海集成电路设计产业园。2026年1月完成天使+轮，2026年7月完成A轮。
公司现有三块业务：燧岩提供检测与光刻级EUV光源系统；辉光聚焦EUV光刻用大功率二氧化碳轴快流激光器；天算专注等离子体仿真软件研发。
距量产仍需3到5年
现场工作人员坦言，该光源系统距离量产仍需3至5年。当前核心挑战在于提升输出功率和长期运行稳定性——商用EUV光刻系统要求光源功率达到数百瓦级别，并能在长时间运行中保持高度可靠。
样机目前验证了技术路线的可行性，但距离工业级应用所需的产品成熟度仍有明显差距。
第二十六届中国国际工业博览会10月12日至16日在国家会展中心（上海）举办，展览面积达31万平方米，来自24个国家和地区的3200多家参展商参展。创新科技馆设在8.2H馆，分设集成电路与数字技术、具身智能与机器人等五大展区。
信息来源：解放日报
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